申請專利：中國7納米晶片光刻技術取得突破

（德國之聲中文網）包括「芯智訊」在內的網路媒體報導稱，國家智慧財產權局於9月10日披露了一項名為「極紫外輻射發生裝置及光刻設備」的發明專利，內容涉及極紫外輻射（EUV）發生裝置及光刻設備，申請者為上海微電子裝備（集團）股份有限公司。

EUV光刻技術是一種先進的晶片製造技術，可以在半導體晶圓上繪制極其精細的電路，從而生產出更小、更強大的晶片。這項技術使用極紫外光（EUV）作為光源，比傳統光刻技術能實現更高的精度。擁有EUV光刻技術專利意味著掌握了製造7納米及以下晶片的關鍵能力。

據相關報導，上海微電子此次披露的專利主要涉及EUV 光源和光刻設備，其中重點的極紫外輻射發生器（光源）主要包括腔體、靶材發生器、雷射發生器、收集鏡、電極板、氣控零件等關鍵零件。

這一消息也引起了德國科技時政類媒體Telepolis的關注。該媒體近日發表報導稱，中國在晶片領域正在迎頭趕上。

報導作者認為，中國的技術進步幾乎勢不可擋。中國光刻設備市場99%的份額由荷蘭阿斯麥（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有阿斯麥生產7納米以下晶片的設備。然而，阿斯麥在為中國客戶提供服務方面面臨壓力，中國是其僅次於台灣的第二大市場。根據2023年年報，阿斯麥僅能滿足中國訂單的50%。據《南華早報》報導，自9月6日起，阿斯麥在中國提供零件、軟體更新和系統維護需要獲得荷蘭許可證。此前，需在美國獲得出口許可。

制裁——與國家安全無關？

美國希望限制中國在計算機晶片領域的發展，聲稱國家安全受到威脅，因為中國也能夠將計算機晶片用於人工智慧和軍事目的。Telepolis的報導指出：阿斯麥首席執行官克里斯托弗‧福克特（Christophe Fouquet）曾經表示，華盛頓所關心的僅在有限範圍內涉及國家安全。這些限制「主要出於經濟原因」，並且「越來越難以辯稱這與國家安全有關」。

荷蘭和日本作為當今世界主要的連個晶片製造設備來源國，備受美國政府的關注。華盛頓已經敦促限制向中國供應各種晶片製造相關技術。但兩國對此並不積極，導致白宮發出威脅，稱如果海牙和東京不配合，將考慮實施最嚴厲的貿易限制措施。

根據中國媒體的報導，中國的通訊設備公司華為最新推出的Mate XT三折疊屏手機採用的麒麟9000處理器基於5納米工藝製成。這也表明儘管備受國際制裁，中國企業仍然有能力生產出7納米以下的先進晶片。但與此同時，也有分析人士認為華為和其合作夥伴找到了規避晶片設備出口管制的渠道，目前還沒有壓倒性證據表明華為擁有這些關鍵技術的完全本土供應鏈。

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